工业清洗剂——示例·配方·制备方法(第2版) 化学工业出版社 fb2 pdf azw3 网盘 rtf 免费 下载 txt

本书结合作者20余年的教学、科研体会,收集、整理了近期国内化学清洗剂发明专利200余篇、期刊文献近百篇,详尽介绍了金属材料工业清洗剂、非金属材料工业清洗剂、交通工业用清洗剂、仪器设备工业用清洗剂、油污油墨用清洗剂、半导体工业用清洗剂等的示例、配方、制备方法。此次修订增补了2011年至今的专利和期刊文献新配方近200例，修订后本书进一步增强了新颖性和实用性。

本书可作为专业清洗研究人员和技术人员的重要参考书,亦可作为高等学校或中专学校学生的教材或教学参考书。

第1章绪论

1.1化学清洗剂的定义及去污原理1

1.1.1化学清洗剂和污垢的概念1

1.1.2清洗剂的作用原理4

1.2化学清洗剂的组成6

1.2.1溶剂6

1.2.2清洗主剂酸或碱7

1.2.3表面活性剂11

1.2.4缓蚀剂——化学清洗技术的核心13

1.2.5漂洗与钝化22

1.2.6助剂25

1.3工业用化学清洗剂产品与使用要求28

1.3.1工业用化学清洗剂产品28

1.3.2工业用化学清洗剂使用技术要求28

1.4化学清洗剂的现状与展望28

1.4.1化学清洗剂的发展28

1.4.2与化学清洗剂相关的国际公约29

1.4.3化学清洗的现状与发展趋势30

第2章金属材料工业清洗剂

2.1通用金属清洗剂36

2.1.1无机金属清洗剂36

2.1.2半水基天然去油清洗剂54

2.1.3半水基合成去油清洗剂60

2.1.4去油清洗剂68

2.2钢材清洗剂74

2.2.1不锈钢清洗剂74

2.2.2碳钢带钢清洗剂76

2.2.3黑色金属清洗剂80

2.2.4钢件防锈钝化处理液91

2.2.5潮湿地区室内钢铁板材用防锈液92

2.3金属镁铝清洗剂92

2.3.1镁合金除锈液92

2.3.2铝材清洗剂92

2.4铜及镀锌金属清洗剂97

2.4.1金属铜材料清洗剂97

2.4.2镀锌金属清洗剂100

2.5其他金属清洗剂101

2.5.1首饰清洗剂101

2.5.2功能材料金属清洗剂103

第3章非金属材料工业清洗剂

3.1玻璃清洗剂109

3.1.1通用玻璃清洗剂109

3.1.2汽车玻璃清洗剂111

3.1.3电子工业用玻璃清洗剂113

3.1.4光学玻璃清洗剂114

3.1.5无磷高效啤酒瓶清洗剂117

3.2建筑石材清洗剂117

3.2.1硅酸盐石材清洗剂118

3.2.2碳酸盐石材清洗剂119

3.3结构陶瓷清洗剂122

3.3.1碱基清洗剂122

3.3.2酸基陶瓷板清洗剂123

3.3.3其他125

3.4高分子材料清洗剂126

3.4.1通用高分子材料清洗剂126

3.4.2电池行业高分子材料清洗剂130

3.4.3精密铸造行业高分子材料清洗剂131

3.4.4高分子设备清洗剂132

3.4.5环保型血清分离胶用硅清洗剂134

3.5其他非金属清洗剂135

第4章交通工业用清洗剂0

4.1车船用清洗剂140

4.1.1车体表面清洗剂140

4.1.2车厢内饰清洗剂143

4.1.3汽车水箱、变速箱拖拉机零件清洗剂144

4.1.4路面清洗剂148

4.1.5船舶专用化学清洗剂150

4.1.6其他车用清洗剂151

4.2飞机用清洗剂153

4.2.1飞机表面清洗剂154

4.2.2机舱内饰清洗剂155

4.2.3机场跑道清洗剂158

4.3发动机清洗剂159

4.3.1润滑系统清洗剂160

4.3.2燃油供给系统清洗剂164

4.3.3冷却系统清洗剂167

4.3.4燃烧系统清洗剂168

4.3.5外部表面清洗剂171

第5章仪器设备工业用清洗剂

5.1精密仪器清洗剂175

5.1.1电子设备清洗剂175

5.1.2机械电器设备用清洗剂182

5.2锅炉清洗剂196

5.2.1锅炉水垢的组成及危害196

5.2.2锅炉化学清洗应用示例196

5.3空调清洗剂213

5.3.1空调器清洗剂213

5.3.2空调配件清洗剂216

5.4其他218

5.4.1循环水系统清洗剂218

5.4.2超滤膜清洗剂220

第6章油污油墨用清洗剂

6.1油污清洗剂225

6.1.1一般油污清洗剂225

6.1.2工业油污清洗剂231

6.2油墨清洗剂235

6.2.1非水基油墨清洗剂235

6.2.2水基油墨清洗剂240

6.2.3微乳型油墨清洗剂243

第7章半导体工业用清洗剂

7.1显像管和液晶清洗剂245

7.1.1液晶清洗剂245

7.1.2显像管清洗剂248

7.2半导体清洗剂250

7.2.1半导体相关清洗剂250

7.2.2半导体硅片清洗剂253

顾大明，哈尔滨工业大学化学系，教授，专业方向：应用化学（化学电源、石油化学、化学清洗）。多年来一直从事无机化学、物理化学、精细化工领域的教学和研究工作，同时开展化学清洗方面的项目合作与研究，为硕士生讲授工业清洗剂方面的课程。

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